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市面上常見的超純水設備采用反滲透、EDI 裝置結合混床模塊化設計工藝，這種工藝能夠高效去除水中雜質，精準制備出符合芯片制造用水要求的超純水。?...
電鍍過程對水質非常敏感，水質不達標會直接影響鍍層均勻度與工藝穩定性，因此，電鍍行業對超純水需求迫切，超純水設備在該領域前景廣闊。?...
超純水設備生產的超純水，電阻率可達 18 MΩ*cm (25℃)，完全符合集成電路清洗用水的嚴格要求，在集成電路清洗領域展現出顯著優勢。?...
超純水設備在芯片生產中的應用，提升了芯片的良品率和質量。在如今國產芯片奮力崛起的征程中，超純水設備已然成為不可或缺的重要支撐。...
工業超純水設備采用的反滲透 + EDI + 精處理混床組合工藝，憑借其出色的性能與顯著優勢，成為半電子產業生產環節中的 “用水保障神器”。?...
超純水設備的 EDI(連續電除鹽)模塊起著至關重要的作用，它能夠高效去除水中的離子，產出高質量的超純水。...
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