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萊特萊德超純水設備結合膜分離技術，采用反滲透、EDI裝置結合混床模塊化設計工藝來制備超純水，其出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求。...
萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2，高于我國國家電子級超純水標準。...
萊特萊德超純水設備采用雙反+EDI+拋光混床組合工藝，能有效去除水中雜質，保證設備出水水質。...
EDI超純水設備操作簡便、無污染，是清潔生產技術，在微電子工業、電工業、醫藥工業、化工工業和實驗室等領域得到日趨廣泛的應用。...
超純水設備是采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。...
萊特萊德超純水設備其能夠連續穩定的制備品質優良的超純水，不會因為樹脂再生而停止運行。...
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