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超純水設備采用“反滲透+EDI+拋光混床”的綜合技術，不但能深度去除超純水中含有的各種離子、雜質和細菌，還能使出水電阻率達到18MΩ*cm(25℃)，生產質量十分穩定。...
超純水的獲得并非易事，它依賴于一系列精密的過濾和凈化技術。通過采用EDI(電去離子)、反滲透膜技術以及拋光混床技術的集成系統，確保了超純水的高品質與穩定性。...
硅晶圓超純水設備憑借先進工藝，實現了對水質的深度凈化，為硅晶圓制造及其他高科技產業提供了至關重要的超純水支持。...
在半導體制造業的尖端領域，超純水設備扮演著至關重要的角色，直接關系到芯片的性能、可靠性和生產效率。...
超純水設備集成了反滲透、EDI及拋光混床等多種先進工藝，形成了一套高效、穩定的超純水制備系統。...
超純水，定義為電阻率超過18 MΩ*cm，幾乎不含有任何雜質的水，是半導體制造中最為嚴苛的用水標準。...
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